新研究：消耗臭氧層的氯氟烴濃度快速上升

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新華社北京4月5日電一個國際研究團隊日前在英國《自然·地球科學》雜志上發表報告說，2010年至2020年，地球大氣層中消耗臭氧層的5種氯氟烴(CFCs)濃度快速上升，部分來源可能指向生產氫氟碳化物(HFCs)產生的副產品。

過去數十年，全球保護臭氧層的努力取得一定進展。國際社會于1987年通過蒙特利爾議定書，要求逐步淘汰使用氯氟烴等消耗臭氧層的化學物質。作為代替物，氫氟碳化物目前已在許多應用中取代了氯氟烴。

研究人員通過分析國際氯氟烴監測網絡數據發現，5種會消耗臭氧層的氯氟烴物質濃度迅速上升。其中，三氯三氟乙烷、二氯四氟乙烷和五氟一氯乙烷這3種氯氟烴的濃度上升可能是生產氫氟碳化物過程中出現的副產品；造成氟利昂-13和四氯二氟乙烷濃度上升的原因尚不明確。

研究人員表示，在目前的排放水平下，這5種氯氟烴的排放并未對臭氧層的恢復構成太多威脅，但如果持續增加，將可能逆轉蒙特利爾議定書實施后取得的積極成果。

氯氟烴是一類只含氯、氟和碳的有機物，屬于氟利昂，其工業用途廣泛，被用作制冷劑和發泡劑、清潔劑等。氯氟烴一旦進入大氣層，就會在平流層積累并消耗其中的臭氧，引發臭氧空洞。大自然不產生氯氟烴，大氣中出現的氯氟烴通常從制冷設備或是其他工業產品中泄漏出來。

編輯：王韻

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